Specyfikacja istotnych warunków zamówienia publicznego

MZ/NZU/87/2016
Specyfikacja istotnych warunków
zamówienia publicznego
Przedmiot postępowania: Infrastruktura badawcza do procesów nanotechnologicznych
struktur półprzewodnikowych, metalicznych i nadprzewodzących
38540000-2
Kod CPV:
38000000-5
Postępowanie
jest
prowadzone
w
trybie
przetargu
Tryb udzielenia
nieograniczonego zgodnie z Prawem Zamówień Publicznych z
zamówienia:
dn. 29 stycznia 2004 r.
Instytut Fizyki Polskiej Akademii Nauk
Inwestor/Kupujący:
02-668 Warszawa, Al. Lotników 32/46.
NIP: 525-000-92-75; Regon: P-000326061
Ochrona prawna SIWZ: Dokument chroniony prawem autorskim
© Instytut Fizyki Polskiej Akademii Nauk ©
Zakup przedmiotu zamówienia finansowany ze środków Ministerstwa Nauki i Szkolnictwa
Wyższego w zakresie wytworzenia aparatury naukowo-badawczej stanowiącej dużą
infrastrukturę badawczą.
§1. Opis przedmiotu zamówienia:
Przedmiot zamówienia składa się z dwóch zadań:
Zadanie nr 1 - budowa i dostawa fabrycznie nowego uniwersalnego reaktora do epitaksji z
wiązek molekularnych MBE
Zadanie nr 2 – dostawa pompy kriogenicznej.
Opis zadania nr 1:
Przedmiotem zamówienia jest budowa i dostawa fabrycznie nowego uniwersalnego reaktora
do epitaksji z wiązek molekularnych MBE (ang. Molecular Beam Epitaxy) UHV (ang. Ultra
High Vacuum) przeznaczonego do wytwarzania warstw epitaksjalnych i niskowymiarowych
struktur kwantowych na różnego rodzaju podłożach krystalicznych wraz z pełnym
wyposażeniem, instalacją, uruchomieniem, podłączeniem do istniejących mediów (woda,
azot, zasilanie, LN2 itp.), testowaniem i szkoleniami. Uniwersalność reaktora jest rozumiana
jako możliwość, albo zaraz po uruchomieniu albo w przyszłości, hodowania z jego użyciem
struktur zbudowanych z szerokiej gamy pierwiastków, w tym materiałów
półprzewodnikowych II-VI, III-V i IV-VI zawierających jony metali posiadających
zlokalizowany spin. System powinien mieć także możliwość rozbudowy i adaptacji dla
uruchomienia w przyszłości z jego wykorzystaniem technologii wytwarzania zupełnie
nowych typów materiałów, dzisiaj nawet nie hodowanych metodą MBE. W wyniku realizacji
przedmiotu zamówienia powstanie nowoczesne Laboratorium Procesów Technologii
Nanostruktur i Przyrządów Półprzewodnikowych w skład którego wejdą; planowany
uniwersalny reaktor MBE oraz nowotworzona linia processingowa (system do fotolitografii,
urządzenie do napylania warstw metalicznych itd.).
Wymaga się podania: nazw urządzenia, modelu, typu, nr katalogowo, producenta, kraju
pochodzenia i roku produkcji (wymagany rok produkcji 2015/2016). System ma być
fabrycznie nowy, nie używany w jakimkolwiek laboratorium oraz nie pokazywany na
konferencjach i imprezach targowych.
Uniwersalny reaktor MBE powinien optymalnie posiadać siedem niezależnych (w sensie
możliwości pompowania), połączonych ze sobą poprzez zawory szybrowe UHV komór
zasadniczych: dwóch komór załadowczych, dwóch komór buforowych, jednej komory
przygotowawczej i dwóch komór wzrostu. Wymagany jest w tych komorach standard ultra
wysokiej próżni UHV. W szczególności układ objęty ultra wysoką próżnią stanowić będzie:
a) Komora wzrostu MBE nr. 1 (MBE Growth Chamber) dla związków A IIBVI, która
będzie obecnie używana do osadzania warstw: ZnTe, CdTe, MgTe, MnTe tworzących
niedomieszkowane warstwy, warstwy domieszkowane manganem Mn, magnezem
indem In, jodem itd. w szczególności kwantowe struktury niskowymiarowe (studnie
kwantowe, kropki kwantowe, nanodruty), struktury barierowe, również struktury o
dużej ruchliwości nośników osadzanych na różnego rodzaju podłożach krystalicznych.
b) Komora wzrostu MBE nr. 2 (MBE Growth Chamber) początkowo służąca do
przygotowywania podłoży do wzrostu w komorze głównej AIIBVI, np. wzrost warstwa
buforowych na różnego rodzaju podłożach krystalicznych, CdTe/GaAs, CdTe/InSb.
Komora ta w przyszłości musi mieć możliwość wzrostu innego typu materiałów.
c) Dwie komory buforowe (nr. 1 i nr. 2) pozwalające zapewnić utrzymanie odpowiedniej
czystości próżni w komorach wzrostu MBE oraz pozwalające na przechowywanie
podłoży (Buffer chamber).
d) Dwie komory załadowcze z systemami transferu podłoży (nr. 1 i nr. 2 (opcja)) (Load
Lock Entry/Exit).
e) Komora przygotowawcza wraz ze stacją grzania podłoży (Heated Station) wyposażoną
w porty do pompowania oraz port na komórkę plazmową np. wodorową.
f) Kanały próżniowe UHV, łączące wszystkie komory poprzez zawory szybrowe UHV.
Aparatura MBE musi umożliwiać hodowanie warstw półprzewodnikowych (a w przyszłości
także metalicznych i nadprzewodnikowych) na podłożach krystalicznych wykonanych np. z
GaAs lub Si o różnych kształtach a także na całych płytkach podłożowych o średnicy do 3
cali włącznie. System musi umożliwiać przechowywanie w warunkach UHV przynajmniej 6ciu uchwytów z podłożami dla komory wzrostu MBE nr. 1 oraz powinien umożliwiać po
wybraniu opcji nr. 6 przechowywanie w warunkach UHV przynajmniej 6-ciu uchwytów z
podłożami dla komory wzrostu MBE nr. 2. Każda z komór załadowczych powinna
umożliwiać jednorazowy załadunek przynajmniej 3 uchwytów z podłożami. System montażu
podłoży na uchwytach wzrostowych musi być uniwersalny tj. musi umożliwiać zarówno
klejenie indem lub galem, jak i montaż w sposób nie wymagający żadnego klejenia. System
transferu musi umożliwić bezproblemowe przenoszenie w warunkach UHV podłoży
pomiędzy WSZYSTKIMI komorami: załadowczymi, buforowymi, przygotowawczej i
dwiema komorami wzrostu. Podczas osadzania podłoże musi być utrzymywane w pozycji
poziomej skierowane stroną epitaksjalną w dół.
Każda z komór musi być wyposażona we wszystkie możliwe w zaoferowanym modelu porty
w celu późniejszej instalacji aparatury pomiarowej i diagnostycznej (np. elipsometru,
pomiarów odbicia, urządzeń do pomiarów temperatury np. BandiT - alternatywa pirometru
itd.). Przedmiot Zamówienia musi umożliwiać wraz z pracującymi wszystkimi możliwymi
pompami (min. 8 pomp kriogenicznych) obserwacje oscylacji RHEED, musi to być system
mechanicznie stabilnie.
System musi być mechanicznie przystosowany i przygotowany do instalacji w laboratorium
Zamawiającego (w czasie instalacji systemu) jego własnych pomp kriogenicznych, system
musi posiadać odpowiednie podpory i rusztowania itd.
Przedmiot zamówienia musi być wyposażony we wszystkie elementy niezbędne do
prawidłowego, bezpiecznego i optymalnego funkcjonowania systemu zgodnie z najlepszą
wiedzą i doświadczeniem producenta.
Wykonawca jest zobowiązany dostarczyć wszystkie niezbędne instrukcje (instrukcje obsługi,
serwisowe jak również instrukcje do dostarczonych programów komputerowych) zarówno
aparatury jako całości, jak również poszczególnych elementów, w tym oprogramowanie
zainstalowane na dostarczonych komputerach oraz ich kopie na płytach CD. Instrukcje muszą
być dostarczone w wersji papierowej i elektronicznej (format np. pdf).
Wykonawca jest zobowiązany dostarczyć rysunki techniczne aparatury wraz z projektem
instalacyjnym uwzględniającym implementację aparatury (MBE, separator faz LN2) w
pomieszczeniu wskazanym przez Zamawiającego w przeciągu 30 dni od daty podpisania
umowy na dostawę.
Wszystkie procesy technologiczne osadzania cienkich warstw i wytwarzania struktur
kwantowych muszą być kontrolowane przez komputery PC (umożliwiające sterowanie w
czasie co najmniej: temperaturą podłoża, obrotami podłoża, wielkością strumieni
molekularnych poprzez temperatury komórek efuzyjnych, położeniem przesłon źródeł
molekularnych i przesłony głównej) z odpowiednim oprogramowaniem oraz dedykowanym
układem automatyki (kontrolującym stan sytemu i stanowiącym system zabezpieczeń przed
skutkami awarii poszczególnych składowych, np. zepsuciem pompy). Oprogramowanie musi
zawierać w sobie wszystkie pakiety umożliwiające podłączenie w przyszłości wszelkich
typów źródeł dostępnych u producenta systemu MBE w chwili jego instalacji a także kontrolę
wszystkich typów pomp oraz zaworów możliwych do zainstalowania w systemie i
wykorzystujących dostępne porty. Całkowity system uniwersalnego reaktora do epitaksji z
wiązek molekularnych musi umożliwiać niezależną, jednoczesną pracę obu komór wzrostu
MBE. Każda komora MBE będąca kompletnym układem UHV z niezależnym układem pomp
i sterowania, składa się m.in. z:
komory wzrostu ze wszystkimi portami oferowanymi w danym typie komory przez
producenta i które służą do obserwacji oraz instalacji różnych elementów systemu
(m.in. wymienionych poniżej oraz pirometru, systemu reflektometrii itd.),
panelu kriogenicznego LN2,
układu pompowego komory wzrostu,
obwodów chłodzenia wodnego (np. chłodzenia manipulatora podłoża), jeżeli takie
obwody są przewidziane w danym rozwiązaniu komory,
układu transportu podłoży,
manipulatora podłoża z grzejnikiem umożliwiającym obroty
przesłony głównej,
miernika strumieni,
mierników próżni,
co najmniej 10 portów na źródła wiązek molekularnych (źródeł MBE),
co najmniej 10 portów na przesłony,
analizatora gazów resztkowych (RGA),
sytemu dyfrakcji odbiciowej elektronów wysokoenergetycznych (RHEED) z działem
elektronowym oraz ekranem obserwacyjnym,
elektroniki i oprogramowania sterującego procesami MBE itd.
Bardziej szczegółowy opis elementów składowych systemu i jego wyposażenia opisany jest w
dalszej części.
Opcje do zadania nr 1, Zamawiający skorzysta z prawa opcji do końca 2016 roku:
Opcja 1 – System RHEED
Opcja 2 – Oprogramowanie z kamerą do akwizycji i analizy obrazów RHEED
Opcja 3 – Układ pompujący: pompa turbomolekularna i pompa występna
Opcja 4 – Komora przygotowawcza
Opcja 5 – Stacja grzania podłoży
Opcja 6 – Komora załadowcza wraz z komorą przechowywania podłoży nr. 2
Opis zadania nr 2
Opisane w formularzu ofertowym.
Wymagania odnośnie gwarancji, serwisu dotyczy całego przedmiotu zamówienia.
1. Wykonawca udzieli minimum 1 rok gwarancji (12 miesiące) na kompletny przedmiot
zamówienia (od dnia podpisania protokołu odbioru) obejmującej naprawy i wymianę
części wymagających wymiany.
2. Koszty transportu, serwisowania, koszty części wymienianych oraz koszty wymiany
tych części ponosi Wykonawca.
3. Czas przystąpienia do naprawy gwarancyjnej: nie dłuższy niż 5 dni od daty zgłoszenia
przez Zamawiającego telefonicznie lub na piśmie (np. pocztą elektroniczną, faksem
itp.) nieprawidłowego działania urządzenia.
4. Producent musi zapewnić bezpłatne porady serwisowe (wsparcie techniczne i
technologiczne) drogą elektroniczną mail i telefonicznie przez minimum 5 lat.
5. Wymaga się dostarczenie numeru telefonu, adresu mailowego i danych osób
odpowiedzialnych za serwis.
6. Czas przywrócenia pełnej funkcjonalności urządzenia: nie dłuższy niż 30 dni
kalendarzowych od daty zgłoszenia przez Zamawiającego nieprawidłowego działania
urządzenia.
7. Okres bezpłatnego serwisu gwarancyjnego ulega automatycznie przedłużeniu o okres
naprawy, a po wystąpieniu trzykrotnej awarii tego samego podzespołu lub elementu
wykonawca zobowiązany jest do wymiany wadliwej części na nową.
8. Bezpłatna aktualizacja oprogramowania przez okres co najmniej 5 lat od daty
podpisania protokołu odbioru.
9. Dostarczony sprzęt musi odpowiadać wszystkim wymogom technicznym i
jakościowym określonym przez Zamawiającego w specyfikacji technicznej. Powinna
zostać do niego załączona dokumentacja techniczna, płyty instalacyjne oraz instrukcja
obsługi w jęz. polskim lub angielskim. Wykonawca zagwarantuje jakość
dostarczonych produktów zgodnie ze specyfikacją techniczną - odpowiedzialność z
tytułu gwarancji jakości obejmuje zarówno wady powstałe z przyczyn tkwiących w
przedmiocie zamówienia w chwili dokonania odbioru przez zamawiającego, jak i
wszelkie inne wady powstałe z przyczyn, za które wykonawca ponosi
odpowiedzialność.
10. System musi być przystosowany i dopuszczony do pracy na terytorium RP (tzn.
posiadać wszelkie wymagane certyfikaty (np. CE, jeśli ma zastosowanie) oraz musi
być dostarczony wraz materiałami i akcesoriami (np. przewodami zasilającymi i
przyłączeniowymi, kablami pomiarowymi, adapterami, zasilaczami, itp. elementami)
niezbędnymi do uruchomienia i poprawnej pracy.
11. Wymagany okres dostępności części zamiennych: min. 10 lat od daty podpisania
protokołu odbioru.
12. Wykonawca zainstaluje i uruchomi dostarczony system oraz przeszkoli minimum
dwóch pracowników Zamawiającego (w laboratorium Zamawiającego) w zakresie
budowy, obsługi, konserwacji technicznej, obsługi programu sterującego, omówienia
warunków bezpieczeństwa, omówienia bieżących prac serwisowych i jego
użytkowania - minimum 3 dniowe szkolenie. Wykonawca wykona badania
stabilności pracy i przeprowadzi niezbędne testy sprawdzające działanie urządzenia.
Zostanie to potwierdzone obustronnie podpisanym protokółem odbioru. Koszty
związane z instalacja, testami i przeszkoleniem pracowników w laboratorium
zamawiającego w zakresie obsługi całego systemu i poszczególnych urządzeń
wchodzących w jego skład, zostaną wliczone w cenę całkowitą. Wykonawca musi
zapewnić materiały i urządzenia niezbędne do przeprowadzenia testów i szkolenia.
Wykonawca zapewni minimum 3 dniowe szkolenie aplikacyjne u Producenta w
zakresie obsługi i konserwacji urządzenia (Zamawiający pokrywa koszty dojazdu i
zakwaterowania – dotyczy tylko szkolenia aplikacyjnego).
§2. Wymagany termin wykonania zamówienia:
Wymaga się, aby ostateczna realizacja przedmiotu zamówienia, nastąpiła w terminie do 9
grudnia 2016 r.
§3. Warunki udziału w postępowaniu, opis sposobu dokonywania oceny
spełniania tych warunków oraz wykaz oświadczeń i dokumentów, jakie
maja dostarczyć wykonawcy w celu potwierdzenia spełniania tych
warunków:
1
2
O udzielenie zamówienia mogą ubiegać się wykonawcy, którzy spełniają warunki z Art.
22 ust. 1 Ustawy PZP, dotyczące:
1) posiadania uprawnień do wykonywania określonej działalności lub czynności,
jeżeli przepisy prawa nakładają obowiązek ich posiadania;
2) posiadania wiedzy i doświadczenia;
3) dysponowania odpowiednim potencjałem technicznym oraz osobami zdolnymi
do wykonania zamówienia;
4) sytuacji ekonomicznej i finansowej,
i nie podlegają wykluczeniu z postępowania z trybie Art. 24 ust. 1.
Oświadczenie o spełnianiu warunków udziału w postępowaniu zgodnie z Art. 22 ust. 1
Ustawy PZP.
Oświadczenie o braku podstaw do wykluczenia z postępowania zgodnie z Art. 24 ust. 1
Ustawy PZP.
Informacja o przynależności lub braku przynależności do grupy kapitałowej wraz z
listą podmiotów należących do tej grupy kapitałowej.
O udzielenie zamówienia mogą ubiegać się wykonawcy, którzy wykażą się należytym
wykonaniem min. 15 dostaw kompletnego systemu MBE (Molecular Beam Epitaxy)
UHV oferowanego Zamawiającemu modelu, zawierającego co najmniej jedną komorę
wzrostu.
Wykaz wykonanych, a w przypadku świadczeń okresowych lub ciągłych również
wykonywanych, głównych dostaw, w okresie ostatnich trzech lat przed upływem
terminu składania ofert, a jeżeli okres prowadzenia działalności jest krótszy – w tym
okresie, wraz z podaniem ich wartości, przedmiotu, dat wykonania i podmiotów, na
rzecz których dostawy zostały wykonane, oraz załączeniem dowodów, czy zostały
3
4
5
6
7
8
9
wykonane lub są wykonywane należycie.
O udzielenie zamówienia mogą ubiegać się wykonawcy, którzy posiadają ubezpieczenie
od odpowiedzialności cywilnej w zakresie prowadzonej działalności związanej z
przedmiotem zamówienia na kwotę nie mniejsza niż 1.000.000,00 PLN.
Opłacona polisa, a w przypadku jej braku, inny dokument potwierdzający, że
wykonawca jest ubezpieczony od odpowiedzialności cywilnej w zakresie prowadzonej
działalności związanej z przedmiotem zamówienia.
O udzielenie zamówienia mogą ubiegać się wykonawcy, którzy wykażą brak podstaw do
wykluczenia w trybie Art. 24 ust. 1 pkt. 2.
Aktualny odpis z właściwego rejestru, jeżeli odrębne przepisy wymagają wpisu do
rejestru, w celu wykazania braku podstaw do wykluczenia w oparciu o art. 24 ust. 1
pkt. 2 ustawy, wystawiony nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu
składania ofert, a w stosunku do osób fizycznych oświadczenia w zakresie art. 24 ust. 1
pkt. 2 Ustawy.
O udzielenie zamówienia mogą ubiegać się wykonawcy, którzy nie zalegają z
opłacaniem podatków.
Aktualne zaświadczenie właściwego naczelnika urzędu skarbowego potwierdzające, że
wykonawca nie zalega z opłacaniem podatków, lub zaświadczenie, że uzyskał
przewidziane prawem zwolnienie, odroczenie lub rozłożenie na raty zaległych płatności
lub wstrzymanie w całości wykonania decyzji właściwego organu — wystawione nie
wcześniej niż 3 miesiące przed upływem terminu składania ofert.
O udzielenie zamówienia mogą ubiegać się wykonawcy, którzy nie zalegają z
opłacaniem składek na ubezpieczenia zdrowotne i społeczne.
Aktualne zaświadczenie właściwego oddziału ZUS lub KRUS potwierdzającego, że
wykonawca nie zalega z opłacaniem składek na ubezpieczenia zdrowotne i społeczne,
lub potwierdzenia że uzyskał przewidziane prawem zwolnienie, odroczenie lub
rozłożenie na raty zaległych płatności lub wstrzymanie w całości wykonania decyzji
właściwego organu — wystawione nie wcześniej niż 3 miesiące przed upływem
terminu składania ofert.
O udzielenie zamówienia mogą ubiegać się wykonawcy, którzy wykażą brak podstaw do
wykluczenia w trybie Art. 24 ust. 1 pkt. 4-8.
Aktualna informacja z Krajowego Rejestru Karnego w zakresie określonym w art. 24
ust. 1 pkt. 4-8 ustawy, wystawiona nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu
składania ofert.
O udzielenie zamówienia mogą ubiegać się wykonawcy, którzy wykażą brak podstaw do
wykluczenia w trybie Art. 24 ust. 1 pkt. 9.
Aktualna informacja z Krajowego Rejestru Karnego w zakresie określonym w art. 24
ust. 1 pkt. 9 ustawy, wystawiona nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu
składania ofert.
O udzielenie zamówienia mogą ubiegać się wykonawcy, którzy wykażą brak podstaw do
wykluczenia w trybie Art. 24 ust. 1 pkt. 10 i 11.
Aktualna informacja z Krajowego Rejestru Karnego w zakresie określonym w art. 24
ust. 1 pkt. 10 i 11 ustawy, wystawionej nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem
terminu albo składania ofert.
Jeżeli, w przypadku wykonawcy mającego siedzibę na terytorium Rzeczypospolitej Polskiej,
osoby, o których mowa w art. 24 ust. 1 pkt. 5–8, 10 i 11 ustawy, mają miejsce zamieszkania
poza terytorium Rzeczypospolitej Polskiej, wykonawca składa w odniesieniu do nich
zaświadczenie właściwego organu sądowego albo administracyjnego miejsca zamieszkania,
dotyczące niekaralności tych osób w zakresie określonym w art. 24 ust. 1 pkt. 5–8, 10 i 11
ustawy, wystawione nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu składania
wniosków o dopuszczenie do udziału w postępowaniu o udzielenie zamówienia albo
składania ofert, z tym że w przypadku gdy w miejscu zamieszkania tych osób nie wydaje się
takich zaświadczeń – zastępuje się je dokumentem zawierającym oświadczenie złożone przed
właściwym organem sądowym, administracyjnym albo organem samorządu zawodowego lub
gospodarczego miejsca zamieszkania tych osób lub przed notariuszem.
Jeżeli wykonawca ma siedzibę lub miejsce zamieszkania poza terytorium Rzeczypospolitej
Polskiej, zamiast dokumentów, o których mowa w § 3.4 – 3.9:
1) pkt. 4-6 i 8 - składa dokument lub dokumenty wystawione w kraju, w którym ma
siedzibę lub miejsce zamieszkania, potwierdzające odpowiednio, że:
a) nie otwarto jego likwidacji ani nie ogłoszono upadłości,
b) nie zalega z uiszczaniem podatków, opłat, składek na ubezpieczenie społeczne
i zdrowotne albo że uzyskał przewidziane prawem zwolnienie, odroczenie lub
rozłożenie na raty zaległych płatności lub wstrzymanie w całości wykonania
decyzji właściwego organu,
c) nie orzeczono wobec niego zakazu ubiegania się o zamówienie;
2) pkt. 7 i 9 - składa zaświadczenie właściwego organu sądowego lub administracyjnego
miejsca zamieszkania albo zamieszkania osoby, której dokumenty dotyczą, w zakresie
określonym w art. 24 ust. 1 pkt. 4-8, 10 i 11 ustawy.
Dokumenty, o których mowa powyżej pkt. 1 lit. a i c, oraz pkt. 2, powinny być wystawione
nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu składania wniosków o dopuszczenie do
udziału w postępowaniu o udzielenie zamówienia albo składania ofert. Dokument, o którym
mowa w pkt. 1 lit. b, powinien być wystawiony nie wcześniej niż 3 miesiące przed upływem
terminu składania wniosków o dopuszczenie do udziału w postępowaniu o udzielenie
zamówienia albo składania ofert.
Jeżeli w kraju miejsca zamieszkania osoby lub w kraju, w którym wykonawca ma siedzibę
lub miejsce zamieszkania, nie wydaje się dokumentów, o których mowa powyżej zastępuje
się je dokumentem zawierającym oświadczenie, w którym określa się także osoby
uprawnione do reprezentacji wykonawcy, złożone przed właściwym organem sądowym,
administracyjnym albo organem samorządu zawodowego lub gospodarczego odpowiednio
kraju miejsca zamieszkania osoby lub kraju, w którym wykonawca ma siedzibę lub miejsce
zamieszkania, lub przed notariuszem.
Wykonawca może polegać na wiedzy i doświadczeniu, potencjale technicznym, osobach
zdolnych do wykonania zamówienia lub zdolnościach finansowych innych podmiotów,
niezależnie od charakteru prawnego łączących go z nimi stosunków.
W przypadku składania oferty przez Wykonawców występujących wspólnie, dokumenty §3
pkt. 4-9 muszą być złożone przez każdego Wykonawcę oddzielnie, warunek §3 pkt. 2-4 musi
spełnić co najmniej jeden Wykonawca, a oświadczenia §3 pkt. 1 składa i podpisuje w imieniu
wszystkich Wykonawców Pełnomocnik, wpisując w miejscu przeznaczonym na podanie
nazwy i adresu Wykonawcy, nazwy i adresy wszystkich Wykonawców składających ofertę
wspólną i załącza pełnomocnictwo do ich reprezentowania.
§4. Informacje o sposobie porozumiewania się zamawiającego z
wykonawcami, a także wskazanie osób uprawnionych do
porozumiewania się z wykonawcami:
1
2
Zamawiający będzie kontaktował się z wykonawcami drogą faksu lub na piśmie.
Osoby przewidziane do kontaktu z wykonawcami:
 Maciej Zajączkowski - fax: (+48 22) 847 00 82.
§5. Wymagania dotyczące wadium oraz zabezpieczenia należytego
wykonania umowy:
1
2
3
4
Zamawiający ustala kwotę wadium na sumę: 100.000,00 PLN.
Zgodnie z Art. 45 ust. 6 wadium może być wnoszone w jednej lub kilku następujących
formach:
 pieniądzu;
 poręczeniach bankowych lub poręczeniach spółdzielczej kasy oszczędnościowokredytowej, z tym że poręczenie kasy jest zawsze poręczeniem pieniężnym;
 gwarancjach bankowych;
 gwarancjach ubezpieczeniowych;
 poręczeniach udzielanych przez podmioty, o których mowa w Art. 6b ust. 5 pkt.
2 ustawy z dnia 9 listopada 2000r. o utworzeniu Polskiej Agencji Rozwoju
Przedsiębiorczości (Dz. U. Nr 109, poz. 1158, z późn. zm.).
Zamawiający ustala kwotę zabezpieczenia należytego wykonania umowy na 10%
wartości zamówienia.
Konto bankowe w przypadku wpłaty wadium w PLN:
BGK 58 1130 1017 0013 4373 9820 0001.
§6. Termin związania ofertą:
1
Zamawiający ustala termin związania ofertą na okres 60 dni od daty terminu składania
ofert.
§7. Opis sposobu przygotowania oferty:
1
2
3
4
5
6
7
8
Oferta powinna być sporządzona w języku polskim z zachowaniem formy pisemnej,
trwałą, czytelną techniką.
Każdy wykonawca może złożyć tylko jedną ofertę. Wykonawca, który przedłożył więcej
niż jedną ofertę, zostanie wyłączony z postępowania.
Nie dopuszcza się składania ofert częściowych i wariantowych.
Oferta powinna zawierać:
 specyfikację techniczną urządzenia/oprogramowania potwierdzającą, że spełnia
wymagania techniczne wymienione w § 1;
 termin dostawy;
 warunki gwarancji;
 cenę.
Kserokopia dowodu uiszczenia wadium powinna być załączona do oferty; oryginał
powinien być w odrębnej kopercie (nie dotyczy wpłat przelewem).
Wszystkie zapisane strony oferty powinny być ponumerowane, podpisane i zszyte.
Wymaga się, aby do oferty dołączyć zeskanowaną ofertę do pliku PDF. Nośnikiem
danych może być płyta CD lub DVD.
Oferent powinien zamieścić ofertę w kopercie z adresem i nazwą Zamawiającego oraz
Oferenta, a także napisem:
"Postępowanie o udzielenie zamówienia publicznego w trybie przetargu
nieograniczonego na uniwersalny reaktor do epitaksji z wiązek molekularnych
MBE [MZ/NZU/87/2016]"
§8. Miejsce oraz termin składania i otwarcia ofert:
1
2
3
Ofertę należy złożyć w siedzibie Zamawiającego, budynek I pok. Nr. 101 (kancelaria
ogólna) w godzinach 9.00 ÷ 15.00 w dni robocze, do dnia 10 marca 2016 r., do godz.
12:00.
W przypadku wysłania oferty pocztą (lub pocztą kurierską) za termin złożenia przyjmuje
się termin otrzymania oferty, a nie datę stempla pocztowego (nadania).
Otwarcie ofert odbędzie się w ostatnim dniu ich składania, w siedzibie Zamawiającego,
budynek I pok. 107 o godzinie 14:00.
§9. Opis sposobu obliczenia ceny:
1
2
Cena wyrażona w walucie polskiej PLN.
Cena powinna uwzględniać:
 koszt urządzeń, oprogramowania, instalacji, gwarancji i szkolenia,
 koszty opakowania,
 koszty ubezpieczenia i transportu towaru do IF PAN.
§10. Opis kryteriów, którymi zamawiający będzie się kierował przy
wyborze oferty w celu zawarcia umowy w sprawie zamówienia
publicznego:
1
2
3
4
5
Cena (Zadanie nr 1 + Zadanie nr 2)
Ze względu na przyszłościowe zastosowania komór MBE do wzrostu
materiałów wymagających ekstremalnych parametrów wzrostu oraz w celu
efektywnego odbioru ciepła i zminimalizowania zużycia ciekłego azotu
Zamawiający przyzna dodatkowe punkty za rozwiązanie w którym
stosowana jest oprócz ciekłego azotu także woda. W rozwiązaniu tym każde
z 10-ciu źródeł ma posiadać ekran wodny na całej długości źródła. Ekrany
wodne powinny być separowalne od źródeł i od systemu MBE, dla
łatwiejszej obsługi i czyszczenia.
Zamawiający przyzna dodatkowe punkty za możliwość zainstalowania w
każdej komorze wzrostu po dziesięć komórek efuzyjnych o dużych
pojemnościach w portach jednakowych rozmiarów i rozmieszczonych
jednorodnie po okręgu, tak by wszystkie pozycje były równoważne z punktu
widzenia strumienia padającego na podłoże.
Zamawiający przyzna dodatkowe punkty za możliwość podglądu wszystkich
10 szt. komórek efuzyjnych i przesłon komórek przez minimum 4 okna
umieszczone na górze reaktora MBE w celu sprawdzenia stanu wylotu
komórki efuzyjnej (dotyczy dwóch komór wzrostu nr. 1 i nr. 2).
Zamawiający przyzna dodatkowe punkty za zastosowanie w komórkach o
dużej pojemności jednoczęściowych tygli PBN (crucible) z przewężeniem,
40 pkt.
5 pkt.
5 pkt.
1 pkt.
8 pkt.
6
7
8
9
10
11
12
13
14
zapewniających zarówno dużą pojemność, jak i bardzo dobrą jednorodność
(±0.6% do odległości 30 mm od środka), obniżony efekt przejściowy
(transcient przy otwieraniu przesłony: „przestrzelenie” (overhsoot) poniżej
1%) oraz zredukowany problem z nabudowywaniem się płatków materiałów
(flaking issues). Producent musi przedstawić dane potwierdzające uzyskaną
jednorodność.
Zamawiający przyzna dodatkowe punkty jeśli w oferowanym systemie
standardowo stosowane są przesłony zoptymalizowane do konkretnych
typów pierwiastków umieszczonych w źródłach. Dotyczy to w szczególności
materiałów użytych jako łopatki przesłon. Muszą być dostępne łopatki
wykonane co najmniej z PBN, Ta i Nb.
Zamawiający przyzna dodatkowe punkty za zastosowanie we wszystkich
komórkach pneumatycznych liniowych przesłon „shutter” pozwalających
uzyskać maksymalną szybkość zamykania i otwierania strumienia wiązek
molekularnych.
Ze względu na przeznaczenie systemu do hodowania struktur o ultra
wysokiej ruchliwości zamawiający przyzna dodatkowe punkty za
zastosowanie w systemie grzejnika podłoża o średnicy poniżej 3.5 cala
zapewniającego minimalną ilość ciepła dostarczanego do systemu w celu
uzyskania zadanej temperatury podłoża przy jednocześnie zachowanej dużej
jednorodności temperatury podłoża 3 calowego (różnice w temperaturze co
najwyżej ±3 °C przy 600 °C). Producent musi przedstawić dane
potwierdzające uzyskaną jednorodność.
Ze względu na wymaganą uniwersalność systemu, możliwość jego dalszej
rozbudowy oraz przeznaczenia do wzrostu nowych typów materiałów
Zamawiający przyzna dodatkowe punkty za taki system komputerowego
sterowania procesami wzrostu oraz monitorowania systemu (always-on) w
którym możliwe jest pisanie procedur skryptowych opartych na języku C.
Zamawiający przyzna dodatkowe punkty za zastosowanie transferów
umożliwiających jedną ręką przekładanie podłoży z wózka znajdującego się
w komorze buforowej do komory wzrostu.
Zamawiający przyzna dodatkowe punkty za możliwość zainstalowania w
komorze wzrostu nr. 1 i 2 przetestowanego grzejnika podłoża dla temperatur
≥ 1800ºC (wymaga się dostarczenia dokumentu potwierdzającego
zainstalowanie u minimum jednego użytkownika takiego typu grzejnika).
Zamawiający przyzna dodatkowe punkty za zintegrowanie komory wzrostu z
szafą elektroniczną (szafa elektroniczna przymocowana do komory wzrostu)
w celu zmniejszenia zajmowanej przez system powierzchni i zapewnienia
elastyczności w dalszej rozbudowie systemu (dotyczy dwóch komór wzrostu
nr. 1 i nr. 2).
Zamawiający przyzna dodatkowe punkty za wykazanie i przedstawienie
rysunków potwierdzających możliwość dalszej rozbudowy przedmiotu
zamówienia o kolejną komorę wzrostu.
Zamawiający przyzna dodatkowe punkty za zastosowanie takiego systemu,
w którym komora załadowcza nr. 1 i komora buforowa nr. 1, oprócz
pozostałych posiadanych parametrów opisanych w przetargu spełni
dodatkowo następujące warunki:
a) Będzie to komora z wózkiem nr. 1 o ruchu poziomym na szynie.
b) Wózek będzie mógł jednocześnie pomieścić co najmniej 3 uchwyty na
podłoża 3 calowe.
1 pkt.
2 pkt.
12 pkt.
1 pkt.
1 pkt.
8 pkt
4 pkt
1 pkt
11 pkt.
c) Drzwiczki do komory będą umiejscowione na poziomie transferu do
komory wzrostu nr. 1. i będzie możliwość instalacji tych drzwiczek
wnętrza komory laminarnej z poziomym przepływem powietrza
(instalacja komory załadowczej z boku komory laminarnej) np. do
komory Heraguard eco 1.5.
d) Wózek na podłoża będzie można przesunąć (po szynie) za pomocą
magnesu do komory buforowej nr. 1 i dalej do komory buforowej nr.2.
Będzie też możliwe przesuwanie wózka po szynie dalej, po
zainstalowaniu w przyszłości kolejnej komory wzrostu.
e) Rozwiązanie będzie umożliwiało przekładanie podłoży w komorze
buforowej nr. 1 z jednego wózka (nr. 1) na drugi wózek transferowy (nr.
2) z zamkniętymi zaworami płytowymi oddzielającymi komorę
buforową nr 1 zarówno od komory załadowczej nr. 1 i jak i od komory
buforowej nr. 2. Umożliwi to jednoczesny transfer co najmniej trzech
uchwytów do 3 calowych podłoży z komory buforowej nr. 1 do komory
buforowej nr. 2. Po przesunięciu wózka transferowego (nr. 2) do
komory buforowej nr. 2 będzie istniała możliwość, przy zakupie opcji 6,
jednoczesnego przechowywania w komorze buforowej nr. 2 co
najmniej 9 podłoży (3 na wózku poziomym i sześciu na wózku
pionowym, umieszczonym na pionowej windzie).
f) Ustawienie i regulacja szyny po której poruszają się wózki będzie
możliwa z zewnątrz komór.
g) Komora załadowcza nr.1 będzie wyposażona w port do instalacji
pompy kriogenicznej CT8 wraz z zaworem płytowym.
h) Komora będzie wyposażone w sondę jonizacyjnej typu Bayarda-Alperta
wraz z kontrolerem do pomiaru wysokiej poróżni UHV (Ion Gauge with
Control Unit, o parametrach nie gorszych niż przykładowy model
Granville – Phillips 350), port z zaworem metalowym i przejściówką
CF/KF40 do odpompowywania komory załadowczej zewnętrznym
stanowiskiem próżniowym.
15 Przy przeliczaniu punktów za cenę, Zamawiający posłuży się wzorem:
Cmin
40
Cbad
gdzie:
Cmin – cena najtańszej oferty;
Cbad – cena oferty badanej.
16 Oferta z najwyższym bilansem punktowym, zostanie uznana za najkorzystniejszą.
§11. Informacje o formalnościach, jakie powinny zostać dopełnione po
wyborze oferty w celu zawarcia umowy w sprawie zamówienia
publicznego:
1
Wykonawca, który wygrał postępowanie o udzielenie zamówienia publicznego,
powinien podpisać umowę w ciągu 7 dni od daty zakończenia terminu na wnoszenie
odwołań, na warunkach określonych w niniejszej specyfikacji istotnych warunków
zamówienia, jednak nie później niż termin związania ofertą.
§12. Istotne dla stron postanowienia, które zostaną wprowadzone do treści
zawieranej umowy w sprawie zamówienia publicznego:
Warunki dostawy: Instytut Fizyki PAN.
Warunki płatności:
Etap 1 - 30% wartości umowy, po otrzymaniu dokumentacji technicznej i jej
zatwierdzeniu przez Zamawiającego, na podstawie faktury cząstkowej;
Etap 2 - 60% wartości umowy, po dostawie przedmiotu zamówienia, na
podstawie faktury cząstkowej;
Etap 3 - 10% wartości umowy, w ciągu 21 dni od daty odbioru protokolarnego,
na podstawie faktury końcowej.
3 Zamawiający zwróci 70% zabezpieczenia w terminie 30 dni od dnia wykonania
zamówienia i uznania przez Zamawiającego za należycie wykonane.
4 Kwota pozostawiona na zabezpieczenie roszczeń z tytułu rękojmi za wady wynosi 30%
wysokości zabezpieczenia.
5 Wykonawca, jako podstawę do odbioru protokolarnego, złoży u Zamawiającego pełną
listę dostarczanych elementów składowych przedmiotu zamówienia, w tym w
szczególności elementy niewmontowane na stałe np.: komputer, monitor, pompa, szafa,
kompresor, itp.
6 W przypadku wystąpienia zwłoki w wykonaniu przedmiotu umowy, Wykonawca
zobowiązuje się zapłacić na rzecz Zamawiającego kary umowne w wysokości 0,5%
wartość umowy za każdy dzień zwłoki, począwszy od pierwszego dnia następującego po
umownym terminie wykonania. Suma kar umownych nie może przekroczyć 10%
wartości umowy.
7 Warunki gwarancji: rozpoczęcie okresu gwarancji zaczyna się od daty uruchomienia. W
przypadku wystąpienia awarii w okresie gwarancyjnym czas obowiązywania gwarancji
będzie przedłużany o okres upływający pomiędzy zgłoszeniem awarii a jej całkowitym
usunięciem.
8 W przypadku wystąpienia opóźnienia płatności Kupujący zobowiązany jest zapłacić na
rzecz Sprzedającego odsetki zgodnie z polskim prawem.
9 Wykonawca zwróci środki otrzymane od Zamawiającego za etap I i II w przypadku:
zerwania umowy przez Wykonawcę;
braku możliwości zrealizowania przedmiotu zamówienia w wymaganym
terminie z winy Wykonawcy.
10 Wszelkie spory wynikłe na tle umowy będzie rozstrzygał sąd właściwy dla siedziby
Zamawiającego.
1
2
§13. Pouczenie o środkach ochrony prawnej:
Środki ochrony prawnej, przysługujące wszystkim wykonawcom, opisane są w Dziale VI
Prawa Zamówień Publicznych z dn. 29 stycznia 2004r (Dz. U. Nr 19, poz. 177 z dnia 9 lutego
2004 wraz z późniejszymi zmianami).
……………………………
……………………………
pieczęć adresowa Oferenta
data
Oferta dla Instytutu Fizyki PAN
do MZ/NZU/87/2016
Oświadczamy, że wykonamy przedmiot zamówienia w Instytucie Fizyki PAN (zgodnie z
SIWZ) za kwotę:
Zadanie nr 1:
…………………………………………………… PLN
(słownie: ………………………………………………………………………… netto/brutto)
w tym:
Opcja 1: …………………………………………………… PLN
(słownie: ………………………………………………………………………… netto/brutto)
Opcja 2: …………………………………………………… PLN
(słownie: ………………………………………………………………………… netto/brutto)
Opcja 3: …………………………………………………… PLN
(słownie: ………………………………………………………………………… netto/brutto)
Opcja 4: …………………………………………………… PLN
(słownie: ………………………………………………………………………… netto/brutto)
Opcja 5: …………………………………………………… PLN
(słownie: ………………………………………………………………………… netto/brutto)
Opcja 6: …………………………………………………… PLN
(słownie: ………………………………………………………………………… netto/brutto)
Zadanie nr 2:
…………………………………………………… PLN
(słownie: ………………………………………………………………………… netto/brutto)
Suma Zadanie nr 1 i 2
…………………………………………………… PLN
(słownie: ………………………………………………………………………… netto/brutto)
Warunki gwarancji i rękojmi: …………………………………………………………………
Stawka podatku VAT: ………% (jeśli podano powyżej kwoty brutto)
Warunki płatności: zgodnie z SIWZ §12.2.
Na ofertę składają się:
.
.
.
.
.
.
.
str. …
2. Oświadczenie Art. 22 ust. 1
.
.
.
.
.
.
.
str. …
3. Oświadczenie Art. 24 ust. 1
.
.
.
.
.
.
.
str. …
4. Wykaz dostaw
.
.
.
.
.
.
.
.
.
str. …
5. Polisa OC .
.
.
.
.
.
.
.
.
.
str. …
6. Informacja banku/SKOK’u
.
.
.
.
.
.
.
str. …
7. Odpis z właściwego rejestru
.
.
.
.
.
.
.
str. …
8. US .
1. Formularz Oferty .
.
.
.
.
.
.
.
.
.
.
.
str. …
9. ZUS/KRUS
.
.
.
.
.
.
.
.
.
str. …
10. KRK
.
.
.
.
.
.
.
.
.
str. …
11. ..........................................................................................
.
.
.
str. …
12. ..........................................................................................
.
.
.
str. …
13. ..........................................................................................
.
.
.
str. …
14. ..........................................................................................
.
.
.
str. …
.
…………………………
podpis i pieczęć imienna Oferenta
……………………………
……………………………
pieczęć adresowa Oferenta
data
Zadanie nr 1
Uniwersalny reaktor do epitaksji z wiązek molekularnych MBE (Molecular Beam
Epitaxy) UHV przeznaczonego do wytwarzania warstw epitaksjalnych na różnego
rodzaju podłożach krystalicznych
Lp.
1.
Wymagania (wymagane parametry minimalne)
Kontrahent może zaoferować aparaturę mającą parametry techniczne lepsze niż
określone przez Zamawiającego.
Uniwersalny reaktor MBE musi zawierać następujące komory:
a) Dwie Komory wzrostu MBE Growth Chamber UHV nr.1 i nr. 2, w których
odbywa się proces epitaksji.
b) Dwie komory buforowe do przechowywania podłoży UHV nr. 1 i nr. 2 (Buffer
chamber), które muszą być buforem oddzielającym komory załadowcze, często
otwierane na środowisko zewnętrzne od komory wzrostu, dla których konieczne
jest zapewnienie najwyższej czystości.
c) Dwie komory załadowcze UHV (Load Lock Entry/Exit) nr. 1 i nr. 2 (komora
załadowcza nr. 2 po wybraniu opcji nr. 6), służące do wprowadzania podłoży z
zewnątrz urządzenia przed procesem i wyprowadzania podłoży z osadzoną warstwą
po procesie epitaksjalnym. Komory załadowcze służą również do wstępnego
odgazowania podłoża.
d) Komora przygotowawcza wraz ze stacją grzania podłoży (Heated Station) opcja
nr. 4, wyposażona w porty do pompowania oraz port na komórkę plazmową np.
wodorową.
e) Kanały próżnie UHV, łączące wszystkie komory.
Komory i kanały muszą być wyprodukowane ze stali nierdzewnej o wysokiej
jakości (np. minimum 316L), która pozwoli osiągnąć warunki UHV. Wszystkie
elementy, których temperatura pracy przewyższa 200 C muszą być wykonane z
materiałów, które w wysokiej temperaturze nie ulegają dekompozycji (np. tantalu,
molibdenu lub pyrolitycznego azotku boru (PBN), ang. Pyrolitic Boron Nitride).
Zawory płytowe VAT* muszą być odporne na wygrzewanie do temperatury
minimum 200°C.
2.
Komora wzrostu MBE nr. 1 (MBE Growth Chamber) dla związków AIIBVI
musi być wyposażona:
a) Komora wzrostu dla związków AIIBVI musi być w konfiguracji pionowej z
podłożem umieszczanym poziomo (z powierzchnią, na której odbywa się
wzrost skierowaną ku dołowi).
b) Komora wzrostu z pojedynczym wymiennym płaszczem azotowym (krio
panel) chłodzonym ciekłym azotem (LN2) (Growth Chamber with Flat Seal
Flange and Full Panel Liquid Nitrogen Cooled Cryoshroud).
c) Minimum następujące porty (w standardzie CF):
Nie mniej niż dziesięć portów na komórki efuzyjne, w tym co najmniej 7
na komórki efuzyjne o dużej pojemności.
Nie mniej niż dziesięć portów na pneumatyczne przysłony komórek
efuzyjnych.
Kolumna do
wypełnienia
przez oferenta
Należy
potwierdzić lub
opisać
Port umieszony na górze komory wzrostu (służący do wymiany krio
panelu), na tym porcie będzie zainstalowana flansza na której muszą być
umieszczone minimum następujące porty; port na manipulator i
pneumatyczną przesłonę grzejnika podłoża (Main Substrate Shutter), dwa
porty do chłodzenia komory ciekłym azotem LN2 wlot/wylot (Female
Bayonet), oraz co najmniej trzy porty do obserwacji źródeł wraz z
przesłonami.
Rura pompująca (pumping well) podłączona do komory wzrostu i służąca
do instalacji pomp kriogenicznych musi mieć średnicę co najmniej 12 cali
(300 mm) i posiadać co najmniej 2 porty przystosowane do
maksymalnego efektywnego pompowania przy użyciu 2 pomp CT10 z
firmy CTI Cryogenics*.
Port wraz z zaworem z uszczelką metalową (all metal valve) i adapterem
CF/KF do wstępnego pompowania komory wzrostu.
Minimum jeden port CF do podłączenia próżniomierza.
Port do podłączenia analizatora gazów resztkowych (RGA, ang. Residual
Gas Analyzer).
Port do podłączania magnetycznego transferu podłoży do komory wzrostu.
Minimum jeden port i okienko do obserwacji procesu wykonywania
transferu podłoża oraz obserwacji samego podłoża.
Port przystosowany dla działa elektronowego i port do ekranu dla
Odbiciowej Dyfrakcji Wysoko Energetycznych Elektronów RHEED (ang.
Reflection High Energy Electron Diffraction).
Port na czujnik pomiaru natężenia strumienia jonów Beam Flux Monitor
(BFM).
Porty do elipsometri.
Porty do podłączenia urządzeń optycznych (np. BandiT, LayTec).
Minimum dwa porty wyposażone w okna podgrzewane i przesłony
chroniące przed zapyleniem. Jeden z tych portów do pirometrycznego
pomiaru temperatury.
Wszystkie inne porty dodatkowe które są możliwe w oferowanym modelu.
Nieużywane porty muszą być zaślepione.
d) Komora wzrostu musi być przystosowana do podłączenia minimum 2 pomp
CT10 z firmy CTI Cryogenics*.
e) Dostarczenie przejściówki służącej do podłączenia pompy kriogenicznej CT8
na porcie przeznaczanym dla pompy CT10 z firmy CTI Cryogenics*.
f) Porty służące do obserwacji muszą mieć wewnątrz próżni wkładki (np. płytki
szklane) zabezpieczające przed osadzaniem materiałów bezpośrednio na szkle
osadzonym we flanszy metalowej. Okienka muszą być wyposażone w
przesłony.
g) Komputerowo sterowany manipulator (sterowanie obrotami i temperaturą
grzejnika) przystosowany do osadzania na podłożach 3 calowych. Wymaga się
żeby piec manipulatora miał możliwość grzania podłoży ≥ 1000 ºC ± 0.2 °C i
jednorodność rozkładu przestrzennego temperatury nie gorsza niż ± 3 ºC (na 3
calach) przy temperaturze 600 ºC, wyposażony w dedykowany kontroler
temperatury PID i zasilacz DC. Grzejnik wyposażony w odpowiednią ilość
termopar. Wymagane jest by obrót podłoży był możliwy do min 40
obrotów/minutę. Podłoże musi być utrzymywane poziomo i podgrzewane
radiacyjnie. Manipulator musi posiadać przesłonę chroniącą podłoże.
h) System pompowy pozwalający na osiągnięcie ciśnienia niższego niż 5×10-11 Tr
(bez azotu ciekłego LN2 i przy wyłączanych źródłach). Dostawa minimum
jednej pompy kriogenicznej UHV, CT10 z firmy CTI Cryogenics* (prędkość
pompowania przynajmniej 3000 l/s dla azotu) z jednym cyfrowym
wskaźnikiem temperatury zamontowanym w szafie elektronicznej i pomiarem
temperatury zimnego palca. Minimum jeden zawór płytowy z firmy VAT* o
średnicy nieograniczającej szybkości pompowania
– pneumatyczny do
odcinania pompy kriogenicznej, wyposażony w wskaźnik pozycji. Zawór
płytowy automatyczny podłączony do elektroniki, zamykający się w momencie
wzrostu ustalonego przez użytkownika ciśnienia oraz wzrostu temperatury
pompy powyżej zadanego progu. Pompa musi być wyposażona w port i zawór
ze stali nierdzewnej (all metal valve), przez który uzyskuje się wstępną próżnię
przy jej uruchamianiu i regeneracji (All metal valve on CF flange to rough
pump). Pompa musi posiadać port i zawór ze stali nierdzewnej (all metal valve)
UHV do zaazotowywania pompy przy jej regeneracji (Purge gas valve on CF
flange). Pompa musi być wyposażona w membranowy zawór bezpieczeństwa
z wymienialna membraną (rupture disc) np. zawór bezpieczeństwa CTICRYOGENICS 8081208P001 oraz membrana CTI-CRYOGENICS
8081208P002 w celu zapewnienia kompatybilności z posiadanymi zaworami.
Jeden kompletny zestaw giętkich przewodów helowych – zestaw zawiera 2
przewody helowe po 15 m (dostarczanie i odbiór helu - flexible helium conduit)
przewody muszą składać się z dwóch odcinków o długościach 9m i 6m (razem
15m) z elementami łączącymi samouszczelniającymi. Węże helowe muszą być
zakończone samouszczelniającymi się szybkozłączami (aeroquipami). Musi
być dostarczony z pompą kriogeniczną dedykowany kompresor helowy z firmy
CTI Cryogenics* (o parametrach nie gorszych jak model 9600). Zasilanie
trójfazowe dostosowane do napięcia miedzyfazowego 400 Vac/50 Hz.
Kompresor musi być chłodzony wodą. Kompresor helowy musi
współpracować z wymienioną pompą kriogeniczną. Musi być dostarczony
dedykowany kabel do zasilania pompy kriogenicznej przez kompresor o
długości minimum 15 m (Cold head cables).
i) Sonda jonizacyjna typu Bayarda-AIperta wraz z kontrolerem - Ion Gauge with
Control Unit (o parametrach nie gorszych niż przykładowy model Granville –
Phillips 350).
j) Spektrometr masowy do analizy gazów resztkowych (RGA, ang. Residual Gas
Analyzer) pracujący w zakresie od 0 do minimum 200 amu.
k) System RHEED musi składać się z działa elektronowego wraz z systemem
wygaszania (beam blanking) wiązki elektronowej, zasilacza i elektroniki
sterującej, niezbędnych kabli, fluorescencyjnego ekranu z uchwytem i oknem
obserwacyjnym wykonanym z bezpiecznego szkła ołowiowego oraz
mechanicznej przesłony ekranu fluorescencyjnego ( o parametrach nie gorszych
niż system RHEED SYSTEM RH15 firmy STAIB INSTRUMENTS). System
RHEED musi być przystosowany do pracy w zakresie ciśnień od 1 10-11 mbar
do 1x10-5 mbar. Działo elektronowe musi być wyposażone w źródło, oraz
odpowiedni system soczewek i system odchylania wiązki elektronowej
elektronów (beam rocking). Zakres energii wiązki elektronowej: od co
najwyżej 500eV do co najmniej 15keV. Energia wiązki elektronowej musi być
zmieniana płynnie w całym zakresie energii. Działo elektronowe musi być
ekranowane przez ekran z Mu-metalu w celu minimalizacji zakłóceń jego
pracy. Napięcie zasilacza musi być regulowane płynie w całym zakresie od 0 V
do 15kV. Konstrukcja działa elektronowego musi być odporna na wysokie
temperatury (do 200°C), gdyż w takiej temperaturze przeprowadza się proces
wygrzewania komory MBE. Zasilacz działa elektronowego musi być
umieszczony w szafie aparaturowej będącej na wyposażeniu komory MBE.
Wymaga się dostarczenia zapasowego włókna katody (filament) i ekranu
fluorescencyjnego.
l) Wysuwany liniowo czujnik pomiaru natężenia strumieni wiązek molekularnych
Beam Flux Monitor (typu Bayarta-Alperta) z kontrolerem wraz z przesłoną
chroniącą czujnik stojący w pozycji postojowej przed zapyleniem. Musi być
zamontowany do oddzielnego, niezależnego portu.
m) Zintegrowany system rozdzielaczy służący do rozdzielania wszystkich
wymaganych przez system mediów w tym np. sprzężonego powietrza lub azotu
do zaworów, przesłon komórek oraz innych urządzeń, czystego azotu 6N lub
argonu 6N do wentylowania wszystkich komór i pomp oraz wody do
chłodzenia komórek, podłoża oraz innych elementów jeżeli tego wymagają.
Wymaga się aby rozdzielacze i linie rozprowadzające media były
doprowadzone do wszytkach punktów nawet tych które w chwili obecnej nie są
zainstalowane.
n) Komputer PC (kompletny zestaw z monitorem) z oprogramowaniem
sterującym i kontrolującym przebieg procesów MBE, zapewniający w czasie
rzeczywistym zmianę, monitorowanie i kontrolę parametrów wzrostu,
akwizycję i archiwizację danych procesu wzrostu. Oprogramowanie musi
zawierać edytor procedur wzrostu umożliwiający samodzielne wprowadzanie
przez użytkownika wszystkich istotnych parametrów wzrostu epitaksjalnego.
Musi istnieć możliwość tworzenia procedur procesów wzrostu MBE na innym
komputerze. Jeżeli systemy mają zintegrowany z szafą elektroniczną monitor i
klawiaturę z myszką to wymaga się podłączenia i dostarczenia dodatkowego
monitora i klawiatury z myszą, i ustawienie ich na biurku.
o) Ręczny zawór płytowy CF (gate valve) z firmy VAT* oddzielający komorę
wzrostu nr 1 od reszty systemu. Wyposażony w siłownik we wskaźnikiem
położenia.
p) Port CF z zainstalowanym zaworem regulacyjnym ręcznym ze stali
nierdzewnej UHV z uszczelką metalową do zaazotowywania komory (all metal
valve).
q) Wymagane jest, aby dostarczona elektronika umożliwiała regulację
temperatury co najmniej 10 komórek dwustrefowych przy pomocy regulatorów
PID zapewniających co najmniej 20 pętli regulacji. Dostarczenie wraz z
komórkami zasilaczy DC o parametrach nie gorszych niż parametry zasilaczy
typu GEN lub GENH firmy Lambda.
r) Elektronika musi zawierać regulatory temperatury PID wraz z zasilaczami DC
stosowane w grzejniku podłoża i w systemie wygrzewania komory oraz inne
dodatkowe, jeżeli urządzenie tego wymaga.
s) Źródła wiązek molekularnych do komory osadzania związków AIIBVI wraz z
niezbędnym wyposażeniem, zapewniającym prawidłową pracę. Wymagane są
następujące źródła:
Cztery komórki efuzyjne nisko temperaturowe do Cd, Te, Zn, Mg: o
pojemności w zakresie 300 - 400 g (dla objętości ciekłego galu),
zapewniające stabilność pracy w zakresie co najwyżej 100ºC do co
najmniej 750ºC, każda komórka z dwoma elementami grzejnymi
(komórka dwustrefowa), tygle z PBN o pojemności w zakresie 300 - 400 g
w stosunku do objętości galu, komórka z wkładką z otworem tzw.
„crucible inserts” każda komórka z dwoma termoparami typu K, każda
komórka z regulatorem PID o dwóch pętlach regulacyjnych i dwoma
zasilaczami DC (o parametrach nie gorszych model GEN lub GENH firmy
Lambda), kablami, komórka chłodzona wodą jeśli chłodzenie wodne jest
stosowane, oraz cztery liniowe przesłony „shuttery” do komórek z
materiału odpornego na wysokie temperatury oraz odpornego na materiał
źródłowy i dobrane optymalnie dla danego typu materiałów Cd, Te, Zn,
Mg (Low Temperature Effusion Cell).
Komórka efuzyjna do Mn: o pojemności w zakresie 300 - 400 g (dla
objętości ciekłego galu), komórka z dwoma elementami grzejnymi
(komórka dwustrefowa), tygliel z PBN o pojemności w zakresie 300 - 400
g w stosunku do objętości galu, komórka z wkładką z otworem tzw.
„crucible inserts”, z dwoma termoparami typu C, komórka z regulatorem
PID i z dwoma zasilaczami DC (o parametrach nie gorszych od
parametrów modeli GEN lub GENH firmy Lambda) o dwóch pętlach
regulacyjnych, kablami, komórka chłodzona wodą jeśli chłodzenie wodne
jest stosowane, liniowa przesłona „shutter” do komórki z materiału
odpornego na wysokie temperatury oraz odpornego na materiał źródłowy i
dobrane optymalnie dla danego typu materiału Mn.
Komórka efuzyjna do In: o pojemności w zakresie 10 - 18 cc, komórka z
elementem grzejnym, komórka typu „Hot-lip”, tygliel stożkowy z PBN o
pojemności w zakresie 10 - 18 cc, tygiel z wewnętrzną wkładką węglową
na końcu, termopara typu C, komórka z regulatorem PID i zasilaczem DC
(o parametrach nie gorszych od parametrów modeli GEN lub GENH firmy
Lambda), kablami, komórka chłodzona wodą jeśli chłodzenie wodne jest
stosowane, liniowa przesłona „shutter” do komórki z materiału odpornego
na wysokie temperatury oraz odpornego na materiał źródłowy i dobrana
optymalnie dla danego typu materiału In np. przesłona wykonana z Ta lub
PBN.
Komórka efuzyjna do Mn: o pojemności w zakresie 14 – 20 cc, komórka
z elementem grzejnym, komórka typu „Hot-lip, , zapewniająca stabilność
pracy w zakresie co najwyżej 750ºC do co najmniej 1200ºC, tygliel
stożkowy z PBN o pojemności w zakresie 14 - 20 cc, tygiel z wewnętrzną
wkładką węglową na końcu, termopara typu C, komórka z regulatorem
PID i zasilaczem DC (o parametrach nie gorszych od parametrów modeli
GEN lub GENH firmy Lambda), kablami, komórka chłodzona wodą jeśli
chłodzenie wodne jest stosowane, liniowa przesłona „shutter” do komórki
z materiału odpornego na wysokie temperatury oraz odpornego na
materiał źródłowy i dobrane optymalnie dla danego typu materiału Mn.
Komórka nisko temperaturowa z zaworem do ZnI2: o pojemności
maksymalnej 100 cc, komórka z dwoma elementami grzejnymi (komórka
dwustrefowa), tygliel z PBN o pojemności maksymalnej 100 cc, z dwoma
termoparami typu K, typowa temperatura pracy komórki 200°C, komórka
z regulatorem PID o dwóch pętlach regulacyjnych i z dwoma zasilaczami
DC (o parametrach nie gorszych od parametrów modeli GEN lub GENH
firmy Lambda), kablami, liniowa przesłona „shutter” do komórki z
materiału odpornego na wysokie temperatury oraz odpornego na materiał
źródłowy i dobrane optymalnie dla danego typu materiału ZnI2 np.
przesłona wykonana z Ta lub PBN. Sterowanie (otwieranie i zamykanie
zaworem) musi odbywać się poprzez kontroler pozycji zarówno z
kontrolera jak i przez przez dostarczone oprogramowanie.
3.
Komora wzrostu MBE nr. 2 (MBE Growth Chamber) do przygotowywania
podłoży do wzrostu w komorze głównej AIIBVI, musi być wyposażona:
a) Komora wzrostu musi być w konfiguracji pionowej z podłożem umieszczanym
poziomo (z powierzchnią, na której odbywa się wzrost skierowaną ku dołowi).
b) Komora wzrostu z pojedynczym wymiennym płaszczem azotowym (krio panel)
chłodzonym ciekłym azotem (LN2) (Growth Chamber with Flat Seal Flange
and Full Panel Liquid Nitrogen Cooled Cryoshroud).
c) Minimum następujące porty (w standardzie CF):
Nie mniej niż dziesięć portów na komórki efuzyjne, w tym co najmniej 7
na komórki efuzyjne o dużej pojemności.
Nie mniej niż dziesięć portów na pneumatyczne przysłony komórek
efuzyjnych.
Port umieszony na górze komory wzrostu (służący do wymiany krio
panelu), na tym porcie będzie zainstalowana flansza na której muszą być
umieszczone minimum następujące porty; port na manipulator i
pneumatyczną przesłonę grzejnika podłoża (Main Substrate Shutter), dwa
porty do chłodzenia komory ciekłym azotem LN2 wlot/wylot (Female
Bayonet), oraz co najmniej trzy porty do obserwacji źródeł wraz z
przesłonami.
Rura pompująca (pumping well) podłączona do komory wzrostu i służąca
do instalacji pomp kriogenicznych musi mieć średnicę co najmniej 12 cali
(300mm) i posiadać co najmniej 2 porty przystosowane do maksymalnego
efektywnego pompowania przy użyciu 2 pomp CT10 z firmy CTI
Cryogenics*.
Port wraz z zaworem z uszczelką metalową (all metal valve) i adapterem
CF/KF do wstępnego pompowania komory wzrostu.
Minimum jeden port CF do podłączenia próżniomierza.
Port do podłączenia analizatora gazów resztkowych (RGA, ang. Residual
Gas Analyzer).
Port do podłączania magnetycznego transferu podłoży do komory wzrostu.
Minimum jeden port i okienko do obserwacji procesu wykonywania
transferu podłoża oraz obserwacji samego podłoża.
Port przystosowany dla działa elektronowego i port do ekranu dla
Odbiciowej Dyfrakcji Wysoko Energetycznych Elektronów RHEED (ang.
Reflection High Energy Electron Diffraction).
Port na czujnik pomiaru natężenia strumienia jonów Beam Flux Monitor
(BFM).
Porty do elipsometri.
Porty do podłączenia urządzeń optycznych (np. BandiT, LayTec).
Minimum dwa porty wyposażone w okna podgrzewane i przesłony
chroniące przed zapyleniem. Jeden z tych portów do pirometrycznego
pomiaru temperatury.
Wszystkie inne porty dodatkowe które są możliwe w oferowanym modelu.
Nieużywane porty muszą być zaślepione.
d) Komora wzrostu musi być przystosowana do podłączenia minimum 2 pomp
CT10 z firmy CTI Cryogenics*.
e) Porty służące do obserwacji muszą mieć wewnątrz próżni wkładki (np. płytki
szklane) zabezpieczające przed osadzaniem materiałów bezpośrednio na szkle
osadzonym we flanszy metalowej. Okienka muszą być wyposażone w
przesłony.
f) Komputerowo sterowany manipulator (sterowanie obrotami i temperaturą
grzejnika) przystosowany do osadzania na podłożach 3 calowych. Wymaga się
żeby piec manipulatora miał możliwość grzania podłoży ≥ 1200ºC ± 0.2°C i
jednorodność rozkładu przestrzennego temperatury nie gorsza niż ±3ºC (na 3
calach) przy temperaturze 600ºC, wyposażony w dedykowany kontroler
temperatury PID i zasilacz DC. Grzejnik wyposażony w odpowiednią ilość
termopar. Wymagane jest by obrót podłoży był możliwy do min 40
obrotów/minutę. Podłoże musi być utrzymywane poziomo i podgrzewane
radiacyjnie. Manipulator musi posiadać przesłonę chroniącą podłoże.
g) System pompowy pozwalający na osiągnięcie ciśnienia niższego niż 5×10-11 Tr
(bez azotu ciekłego LN2 i przy wyłączanych źródłach). Dostawa minimum
jednej pompy kriogenicznej UHV, CT10 z firmy CTI Cryogenics* (prędkość
pompowania przynajmniej 3000 l/s dla azotu) z jednym cyfrowym
wskaźnikiem temperatury zamontowanym w szafie elektronicznej i pomiarem
temperatury zimnego palca. Minimum jeden zawór płytowy z firmy VAT* o
średnicy nieograniczającej szybkości pompowania
– pneumatyczny do
odcinania pompy kriogenicznej, wyposażony w wskaźnik pozycji. Zawór
płytowy automatyczny podłączony do elektroniki, zamykający się w momencie
wzrostu ustalonego przez użytkownika ciśnienia oraz wzrostu temperatury
pompy powyżej zadanego progu. Pompa musi być wyposażona w port i zawór
ze stali nierdzewnej (all metal valve), przez który uzyskuje się wstępną próżnię
przy jej uruchamianiu i regeneracji (All metal valve on CF flange to rough
pump). Pompa musi posiadać port i zawór ze stali nierdzewnej (all metal valve)
UHV do zaazotowywania pompy przy jej regeneracji (Purge gas valve on CF
flange). Pompa musi być wyposażona w membranowy zawór bezpieczeństwa
z wymienialna membraną (rupture disc) np. zawór bezpieczeństwa CTICRYOGENICS 8081208P001 oraz membrana CTI-CRYOGENICS
8081208P002 w celu zapewnienia kompatybilności z posiadanymi zaworami.
Jeden kompletny zestaw giętkich przewodów helowych – zestaw zawiera 2
przewody helowe po 15 m (dostarczanie i odbiór helu - flexible helium conduit)
przewody muszą składać się z dwóch odcinków o długościach 9m i 6m (razem
15m) z elementami łączącymi samouszczelniającymi. Węże helowe muszą być
zakończone samouszczelniającymi się szybkozłączami (aeroquipami). Musi
być dostarczony z pompą kriogeniczną dedykowany kompresor helowy z firmy
CTI Cryogenics* (o parametrach nie gorszych jak model 9600). Zasilanie
trójfazowe dostosowane do napięcia miedzyfazowego 400 Vac/50 Hz.
Kompresor musi być chłodzony wodą. Kompresor helowy musi
współpracować z wymienioną pompą kriogeniczną. Musi być dostarczony
dedykowany kabel do zasilania pompy kriogenicznej przez kompresor o
długości minimum 15 m (Cold head cables).
h) Sonda jonizacyjna typu Bayarda-AIperta wraz z kontrolerem - Ion Gauge with
Control Unit (o parametrach nie gorszych niż przykładowy model Granville –
Phillips 350).
i) Spektrometr masowy do analizy gazów resztkowych (RGA, ang. Residual Gas
Analyzer) pracujący w zakresie od 0 do minimum 200 amu.
j) Wysuwany liniowo czujnik pomiaru natężenia strumieni wiązek molekularnych
Beam Flux Monitor (typu Bayarta-Alperta) z kontrolerem wraz z przesłoną
chroniącą czujnik stojący w pozycji postojowej przed zapyleniem. Musi być
zamontowany do oddzielnego, niezależnego portu.
k) Zintegrowany system rozdzielaczy służący do rozdzielania wszystkich
wymaganych przez system mediów w tym np. sprzężonego powietrza lub azotu
do zaworów, przesłon komórek oraz innych urządzeń, czystego azotu 6N lub
argonu 6N do wentylowania wszystkich komór i pomp oraz wody do
chłodzenia komórek, podłoża oraz innych elementów jeżeli tego wymagają.
Wymaga się aby rozdzielacze i linie rozprowadzające media były
doprowadzone do wszytkach punktów nawet tych które w chwili obecnej nie są
zainstalowane.
l) Komputer PC (kompletny zestaw z monitorem) z oprogramowaniem
sterującym i kontrolującym przebieg procesów MBE, zapewniający w czasie
rzeczywistym zmianę, monitorowanie i kontrolę parametrów wzrostu,
akwizycję i archiwizację danych procesu wzrostu. Oprogramowanie musi
zawierać edytor procedur wzrostu umożliwiający samodzielne wprowadzanie
przez użytkownika wszystkich istotnych parametrów wzrostu epitaksjalnego.
Musi istnieć możliwość tworzenia procedur procesów wzrostu MBE na innym
komputerze. Jeżeli systemy mają zintegrowany z szafą elektroniczną monitor i
klawiaturę z myszką to wymaga się podłączenia i dostarczenia dodatkowego
monitora i klawiatury z myszą, i ustawienie ich na biurku.
m) Ręczny zawór płytowy (gate valve) CF z firmy VAT* oddzielający komorę
wzrostu nr. 2 od reszty systemu. Wyposażony w siłownik we wskaźnikiem
położenia.
n) Port CF z zainstalowanym zaworem regulacyjnym ręcznym ze stali
nierdzewnej UHV z uszczelką metalową do zaazotowywania komory (all metal
valve).
o) Wymagane jest, aby dostarczona elektronika umożliwiała regulację
temperatury co najmniej 7 komórek dwustrefowych przy pomocy regulatorów
PID zapewniających co najmniej 14 pętli regulacji.
p) Elektronika musi zawierać regulatory temperatury PID wraz z zasilaczami DC
stosowane w grzejniku podłoża i w systemie wygrzewania komory oraz inne
dodatkowe jeżeli urządzenie tego wymaga.
4.
Komora załadowcza nr. 1 od strony komory do wzrostu struktur II-VI nr. 1
(Load Lock Entry/Exit) musi zawierać:
a)
Ręczny zawór płytowy (gate valve) CF z firmy VAT* oddzielający
komorę załadowczą nr. 1 od komory buforowej nr. 1, wyposażony w
siłownik ze wskaźnikiem położenia.
b) Układ lamp kwarcowych do odgazowania podłoży w temperaturze co
najmniej 150 ºC, składający się z lampy, regulatora PID, zasilacza, oraz
odpowiedniej ilości termopar.
c)
Port CF do podłączenia układu pompującego.
d) Układ pompujący: pompa turbomolekularna i pompa wstępna typu Scroll,
pompy bezolejowe: Pompa turbomolekularna z obustronnym
magnetycznym zawieszeniem wirnika oraz zintegrowanym kontrolerem,
szybkość pompowania pompy turbo minimum 300l/s dla azotu parametry
pompy nie gorsze niż model MAG W 300 iP. Szybkość pompowania
pompy scroll minimum 11m3/h, wartość próżni uzyskiwana przez pompę
scroll nie gorsza niż 7*10-3 mbar (o parametrach nie gorszysz niż pompa
np. Edwards nXDS10i). Układ pompujący dopasowany do wielkości
komory załadowczej i urządzenia. Do układu pomp musi być dołączony
dedykowany zasilacz. Układ pompy wyposażony w ręczny zawór firmy
VAT* izolujący pompę od komory układu. Na rurze po stronie pompy
musi być umieszczony ręczny zawór ze stali nierdzewnej (all metal valve),
wyposażony w przejściówkę na KF40 służący do pompowania pomp
kriogenicznych w procesie ich regeneracji. Dostawa węży/mieszki do
pompowania pomp kriogenicznych o odpowiedniej długości. Układ
pompujący, który pozwali osiągnąć w komorze załadowczej ciśnienie
lepsze niż 5×10-8 Tr.
e)
Minimum jeden port CF do podłączenia próżniomierza.
f)
Port CF z próżniomierzem wraz z kontrolerem do pomiaru próżni Convection Gauge and Ion Gauge with Control Unit (o parametrach nie
gorszych niż przykładowy model Granville – Phillips 358).
g) Drzwiczki z zamkiem (uszczelką vitonową) otwierane do otoczenia z
portem do obserwacji. Drzwi muszą być odkręcane i wymieniane na
dostarczoną flansze z uszczelką metalową.
h) Wózek minimum 3 pozycyjny/ na 3 uchwyty wraz z system do transferu
podłoży umożliwiającym przenoszenie podłoży z komory załadowczej do
komory buforowej.
i)
5.
Port z zainstalowanym zaworem regulacyjnym ręcznym ze stali
nierdzewnej UHV z uszczelką metalową do zaazotowywania komory
załadowczej (all metal valve).
Komora buforowa do przechowywania podłoży nr. 1 (Buffor Chamber) musi
zawierać:
a) Komora podłączona do komory załadowczej nr. 1 do komory wzrostu nr. 1
i komory buforowej nr. 2.
b) Wyposażona w minimum dwa porty i okienka niezbędne do obserwacji
procesów transferu podłoży pomiędzy komorami (view port).
c) Port do instalacji stacji przygotowawczej do wygrzewania podłoży w
temperaturze co najmniej 600°C.
d) Wyposażona w układ umożliwiający bezproblemowe przeniesienie
podłoży z jednego wózka na drugi wózek.
e) Wózek transferowy (nr 2) minimum 3 pozycyjny/ na 3 uchwyty.
f)
Port do podłączenia zaworu płytowego i pompy kriogenicznej CT8.
g) Zawór płytowy z firmy VAT* o średnicy nieograniczającej szybkości
pompowania pompy kriogenicznej CT8 – pneumatyczny do odcinania
pompy kriogenicznej, wyposażony w wskaźnik pozycji. Zawór płytowy
automatyczny podłączony do elektroniki, zamykający się w momencie
wzrostu ustalonego przez użytkownika ciśnienia oraz wzrostu temperatury
pompy powyżej zadanego progu.
h) Przy pomocy pompy kriogenicznej można osiągnąć w komorze buforowej
ciśnienie lepsze niż 9×10-10 Tr.
i)
Minimum jeden port CF do podłączenia próżniomierza.
j)
Sonda jonizacyjna typu Bayarda-AIperta wraz z kontrolerem - Ion Gauge
with Control Unit (o parametrach nie gorszych niż przykładowy model
Granville – Phillips 350).
k) System do przenoszenia podłoży z wózka do komory wzrostu.
l)
Komora buforowa musi być wyposażona w port CF do zainstalowania
spektrometru RGA.
m) Port z zainstalowanym zaworem ze stali nierdzewnej UHV (all metal
valve) do odpompowywania komory zewnętrznym stanowiskiem.
6.
Komora buforowa do przechowywania podłoży nr. 2 (Buffor Extension
Chamber) musi zawierać:
a) Komora podłączona do komory buforowej nr. 1, podłączona do komory
wzrostu nr. 2 oraz umożliwiająca przyłączenie komory przygotowawczej
wraz ze stacją grzania podłoży (Heated Station).
b) Wyposażona w minimum dwa porty i okienka niezbędne do obserwacji
procesów transferu podłoży pomiędzy komorami (view port).
c) Wyposażona w porty umożliwiające zainstalowanie w pełni funkcjonalnej
komory załadowczej nr. 2 oraz komory do przechowywania podłoży
wyposażonej w wózek pionowy co najmniej 6 pozycyjny.
d) Komora buforowa musi posiadać port umożlwiający podłączenie przez
zawór płytowy komory przygotowawczej UHV do wygrzewania podłoży
w temperaturze co najmniej 600°C wyposażonej w port do podłączenia
komórki plazmowej np. wodorowej oraz musi posiadać transfer
umożlwiający przekładanie podłoży z wózka transferowego do komory
przygotowawczej.
e) Wyposażona w układ umożliwiający bezproblemowy transfer podłoży
pomiędzy wózkiem pionowym co najmniej 6 pozycyjnym a wózkiem
transferowym.
f)
Transfer musi umożliwiać przenoszenie podłoży pomiędzy komorami i
załadunek podłoży do komory wzrostu nr. 2.
g) Minimum jeden port CF do podłączenia próżniomierza.
h) Sonda jonizacyjna typu Bayarda-AIperta wraz z kontrolerem - Ion Gauge
with Control Unit (o parametrach nie gorszych niż przykładowy model
Granville – Phillips 350).
i)
Ręczny zawór płytowy (gate valve) z firmy VAT* łączący dwie komory
buforowe nr. 1 i nr. 2. Wyposażony w siłownik we wskaźnikiem
położenia.
j)
Port do podłączenia zaworu płytowego i pompy kriogenicznej CT8*.
k) Zawór płytowy z firmy VAT* o średnicy nieograniczającej szybkości
pompowania pompy kriogenicznej CT8* – pneumatyczny do odcinania
pompy kriogenicznej, wyposażony w wskaźnik pozycji. Zawór płytowy
automatyczny podłączony do elektroniki, zamykający się w momencie
wzrostu ustalonego przez użytkownika ciśnienia oraz wzrostu temperatury
pompy powyżej zadanego progu. Port z zaworem zaślepiony.
l)
Układ pompujący pozwali osiągnąć w komorze buforowej nr. 2 ciśnienie
lepsze niż 9×10-10 Tr.
m) Komora buforowa musi być wyposażona w port CF do podłączenia
spektrometru RGA.
n) Port z zainstalowanym zaworem ze stali nierdzewnej UHV (all metal
valve) do odpompowywania komory zewnętrznym stanowiskiem.
7.
Zestaw kompletnych sześciu molibloków 3 calowych na podłoża 2 calowe (bez
klejenia) z elementami poprawiającymi jednorodność rozkładu temperatury na
podłożu (with spring plates to support 2 in wafers) jeżeli producent stosuje takie
rozwiązanie lub analogiczne do systemu np. UNI-Block.
8.
Szyny po których poruszają się wózki we wszytkach komorach powinny mieć
możliwość regulacji ich wysokości z zewnątrz komory, jeżeli producent używa
takiego rozwiązania.
9.
Wszystkie zawory płytowe muszą być wyposażone w wizualny indykator
wskazujący brak zamknięcia zaworu.
10.
Wykonawca dostarczy niezbędny podstawowy zestaw narzędzi: np. akcesoria do
napełniania komórek, do nakładania i zdejmowania podłoży itd. Odpowiedni
zestaw kluczy oraz instrukcje obsługi wraz z rysunkami.
11.
Wymaga się aby elektronika wraz z przewodami (elektrycznymi, gazowymi itd.)
oraz oprogramowanie były przygotowane (dostarczone) do podłączenia do
uniwersalnego reaktora MBE min 8 pomp kriogenicznych. Dostawa minimum 8
elektronicznych mierników temperatury umożliwiających monitorowanie i
kontrolowanie przez system minimum 8 pomp kriogenicznych.
12.
Elektronika sterująca i pakiety oprogramowania sterowania procesem wzrostu
MBE – 2 sztuki:
a)
Wszystkie procesy technologiczne osadzania cienkich warstw i
wytwarzania struktur kwantowych muszą być kontrolowane przez
komputery PC (umożliwiające sterowanie w czasie co najmniej:
temperaturą podłoża, obrotami podłoża, wielkością strumieni
molekularnych poprzez temperatury komórek efuzyjnych, położeniem
przesłon źródeł molekularnych i przesłony głównej) z odpowiednim
oprogramowaniem
oraz
dedykowanym
układem
automatyki
(kontrolującym stan sytemu i stanowiącym system zabezpieczeń przed
skutkami awarii poszczególnych składowych, np. zepsuciem pompy),
b)
Oprogramowanie musi zawierać w sobie wszystkie pakiety umożliwiające
podłączenie w przyszłości wszelkich typów źródeł dostępnych u
producenta systemu MBE w chwili jego instalacji a także kontrolę
wszystkich typów pomp oraz zaworów możliwych do zainstalowania w
systemie i wykorzystujących dostępne porty. Całkowity system
uniwersalnego reaktora do epitaksji z wiązek molekularnych musi
umożliwiać niezależną, jednoczesną pracę obu komór wzrostu MBE.
c)
Dostawa szafy z układami elektronicznymi i elektrycznymi do sterowania,
systemami bezpieczeństwa i wyłącznikiem awaryjnym, regulatory układu
MBE itd. (electronics rack),
d)
komputer + oprogramowanie do sterowania układem MBE (źródłami,
13.
14.
15.
16.
17.
18.
przesłonami, manipulatorem podłoży i innymi elementami układu) i
programem bezpieczeństwa,
e)
oprogramowanie dla automatycznego, awaryjnego wyłączenia i
zabezpieczenia systemu MBE w sytuacjach awaryjnych takich jak:
obniżenie ciśnienia wody jeśli producent wykorzystuje takie rozwiązanie,
rozszczelnienie układu próżniowego, zanik napięcia w sieci
energetycznej, itp. (przedmuch instalacji wodnej, automatyczne zawory
odcinające, schładzanie komórek),
f)
możliwość wyłączenia grzania komórek efuzyjnych i podłoża lub
przełączenia tego grzania na tryb pracy standby (zwany również set point
2) przy pomocy zewnętrznego sygnału doprowadzonego przez
użytkownika;
szczegóły
dotyczące
wymaganych
parametrów
zewnętrznego sygnału zostaną ustalone przez Zamawiającego w
porozumieniu z Wykonawcą po podpisaniu umowy.
g)
Zamawiający zapewnia UPS 80kVA 3 fazowy,
h)
Zamawiający zapewnia transformator 3 fazowy jeżeli zastosowanie
takiego rozwiązania wymagane jest do zasilania elektroniki MBE,
i)
Kompresory helowe muszą być chłodzone wodą i zasilanie trzyfazowo o
napięciu 400V, 50Hz.
Każda komora UHV izolowana zaworami musi być wyposażona w odpowiednią
ilość próżniomierzy zapewniających prawidłową pracę systemu po zainstalowaniu
wszystkich możliwych 8 szt. pomp kriogenicznych.
Wymaga się dostarczenia rur metalowych (mieszki) z odpowiednimi końcówkami i
o długości pozwalającej regenerowanie pomp kriogenicznych z użyciem pomp
turbo z komór załadowczych.
Zamawiający dostarczy do pomieszczenia media: wodę chłodzącą, azot i powietrze,
ciekły azot LN2, gniazda elektryczne i sieciowe.
Wymaga się dostarczenia kompletnego systemu umożlwiającego wygrzewanie
całego urządzenia – wszystkich komór (grzałki, zasilacze, regulatory, termopary
itd.). System musi być tak skonstruowany, aby można go było założyć na komorę
(komory) z zainstalowanym systemem RGA.
W ramach testu akceptacyjnego zostanie przeprowadzone sprawdzenie
poprawności działania wszystkich układów i elementów Urządzenia poprzez
przeprowadzenie testów sprawdzających według norm producenta oraz następujące
testy: wykazania osiągniecia żądanych wartości próżni we wszystkich komorach,
wszystkich temperatur oraz ich stabilizacje.
Separator fazy:
Wejście i wyjście azotu ciekłego do komór wzrostu nr. 1 i nr. 2 muszą mieć
rozmiar taki, aby można było użyć posiadany przez Zamawiającego system
DeMaCo Phase Separator MBE. System ten wyposażony jest w azotowe (LN2),
transferowe rury izolowane próżniowo o zewnętrznej średnicy bagnetu wynoszącej
40 mm, długości 177 mm do flanszy zaciskowej o średnicy 50.4 mm. Zamawiający
umożliwi na prośbę Oferenta obejrzenie systemu.
Przedmiot zamówienia musi pasować do posianego systemu dolewania azotu.
19.
*Pompy CTI są wymagane ze względu na to, że są standardowo stosowane w
istniejących w Instytucie Fizyki urządzeniach próżniowych. Instytut dysponuje dużą
ilością części zamiennych dla tego typu pomp. Ponadto personel techniczny jest
doświadczony w obsłudze i serwisowaniu kriopomp firmy CTI.
*Zawory VAT są wymagane ze względu na to, że są standardowo stosowane w
istniejących w Instytucie Fizyki urządzeniach próżniowych. Instytut dysponuje dużą
ilością części zamiennych dla tego typu zaworach. Ponadto personel techniczny jest
doświadczony w obsłudze i serwisowaniu zaworów firmy VAT.
Opcja 1 - System RHEED
Lp.
1.
Wymagania (wymagane parametry minimalne)
Kontrahent może zaoferować aparaturę mającą parametry techniczne lepsze niż
określone przez Zamawiającego.
Kolumna do
wypełnienia
przez oferenta
Należy
potwierdzić lub
opisać
System RHEED do komory wzrostu MBE nr. 2 (MBE Growth Chamber):
System RHEED musi składać się z działa elektronowego wraz z systemem
wygaszania (beam blanking) wiązki elektronowej, zasilacza i elektroniki sterującej,
niezbędnych kabli, fluorescencyjnego ekranu z uchwytem i oknem obserwacyjnym
wykonanym z bezpiecznego szkła ołowiowego oraz mechanicznej przesłony
ekranu fluorescencyjnego (o parametrach nie gorszych niż system RHEED
SYSTEM RH15 firmy STAIB INSTRUMENTS). System RHEED musi być
przystosowany do pracy w zakresie ciśnień od 1 10 -11 mbar do 1x10-5 mbar. Działo
elektronowe musi być wyposażone w źródło, oraz odpowiedni system soczewek i
system odchylania wiązki elektronowej elektronów (beam rocking). Zakres energii
wiązki elektronowej: od co najwyżej 500eV do co najmniej 15keV. Energia wiązki
elektronowej musi być zmieniana płynnie w całym zakresie energii. Działo
elektronowe musi być ekranowane przez ekran z Mu-metalu w calu minimalizacji
zakłóceń jego pracy. Napięcie zasilacza musi być regulowane płynie w całym
zakresie od 0 V do 15kV. Konstrukcja działa elektronowego musi być odporna na
wysokie temperatury (do 200°C), gdyż w takiej temperaturze przeprowadza się
proces wygrzewania komory MBE. Zasilacz działa elektronowego musi być
umieszczony w szafie aparaturowej będącej na wyposażeniu komory MBE. W
przypadku wyboru tej opcji, układ musi być podłączony do elektroniki oraz
urządzenia.
Opcja 2 - Oprogramowanie z kamerą do akwizycji i analizy obrazów RHEED
Lp.
1.
Wymagania (wymagane parametry minimalne)
Kontrahent może zaoferować aparaturę mającą parametry techniczne lepsze niż
określone przez Zamawiającego.
Kolumna do
wypełnienia
przez oferenta
Należy
potwierdzić lub
opisać
Oprogramowanie z kamerą do akwizycji i analizy obrazów RHEED:
Układu do obserwacji oscylacji natężenia obrazu RHEED oraz akwizycji i
przetwarzania obrazów RHEED (hardware and software). System musi składać się
z kamery video, odpowiedniego oprogramowania ze wszytkimi dostępnymi
licencjami oraz kabli i uchwytów (o parametrach nie gorszych niż urządzenie
KSA-400 Lite RHEED Analysis K4V/SCD, K4AOS). Zasilanie 230V, 50Hz.
Kamera o rozdzielczości nie gorszej niż 1025x1024 pikseli. Układ musi
umożliwiać: pomiar szybkość wzrostu (growth rate), ocenę jakość powierzchni,
śledzenie rekonstrukcji powierzchni podczas wzrostu itd.
Opcja 3 - Układ pompujący: pompa turbomolekularna i pompa wstępna
Lp.
Wymagania (wymagane parametry minimalne)
Kontrahent może zaoferować aparaturę mającą parametry techniczne lepsze niż
Kolumna do
wypełnienia
przez oferenta
określone przez Zamawiającego.
1.
Należy
potwierdzić lub
opisać
Układ pompujący przystosowany do pompowania komory załadowczej nr. 2.
Układ pompujący podłączony do komory załadowczej: pompa turbomolekularna i
pompa występna typu Scroll, pompy bezolejowe: Pompa turbomolekularna z
obustronnym magnetycznym zawieszeniem wirnika oraz zintegrowanym
kontrolerem, szybkość pompowania pompy turbo minimum 300l/s dla azotu
parametry pompy nie gorsze niż model MAG W 300 iP. Szybkość pompowania
pompy scroll minimum 11m3/h, wartość próżni uzyskiwana przez pompę scroll nie
gorsza niż 7*10-3 mbar (o parametrach nie gorszysz niż pompa np. Edwards
nXDS10i). Układ pompujący dopasowany do wielkości komory i urządzenia. Do
układu pomp musi być dołączony dedykowany zasilacz. Układ pompy wyposażony
w ręczny zawór firmy VAT* izolujący pompę od układu, o średnicy
nieograniczającej szybkości pompowania. Na rurze po stronie pompy musi być
umieszczony ręczny zawór ze stali nierdzewnej (all metal valve), wyposażony w
przejściówkę na KF40 służący do pompowania pomp kriogenicznych w procesie
ich regeneracji. Układ pompujący, który pozwali osiągnąć w komorze załadowczej
nr. 2 ciśnienie lepsze niż 5×10-8 Tr. W przypadku wyboru tej opcji, układ musi
być podłączony do elektroniki oraz urządzenia i musi być sterowany przez
oprogramowanie do obsługi urządzenia jeżeli producent stosuje takie rozwiązanie.
Opcja 4 - Komora przygotowawcza
Lp.
Wymagania (wymagane parametry minimalne)
Kontrahent może zaoferować aparaturę mającą parametry techniczne lepsze niż
określone przez Zamawiającego.
1.
Komora przygotowawcza UHV wyposażoną w porty do pompowania oraz port
na komórkę plazmową np. wodorową musi zawierać:
a) Minimum jeden porty z okienkiem do obserwacji komory (view ports),
jeżeli jest stosowany przez producenta.
b) Minimum jeden port CF do podłączenia pompy kriogenicznej CT8
wyposażonej w zawór płytowy z firmy VAT*.
c) Port do instalacji komórki plazmowej np. wodorowej. Geometria portu
musi być tak zaplanowana aby strumień wodoru skierowany był
bezpośrednio na podłoże.
d) Port do zainstalowania stacji grzania podłoży opisanej w opcji 5.
e) Ręczny transfer do podłoży. Transfer musi być przystosowany to
przenoszenia podłoży z wózka transferowego znajdującego się komorze
buforowej nr. 2 do stacji grzania podłoży (Heated Station). Transfer musi
być na tyle długi aby umożliwił przedkładanie podłoży przez zawór
płytowy VAT* do stacji grzania podłoży (Heated Station).
f)
Sonda jonizacyjna typu Bayarda-AIperta wraz z kontrolerem - Ion Gauge
with Control Unit (o parametrach nie gorszych niż przykładowy model
Granville – Phillips 350).
g) Transfer do przenoszenia podłoży do komory.
h) Układ pompujący z komory buforowej nr. 2, który pozwali osiągnąć
ciśnienie w komorze przygotowawczej lepsze niż 1×10-8 Tr. Przy
podłączeniu do komory przygotowawczej pompy kriogenicznej CT8*
można będzie uzyskać ciśnienie lepsze niż 1×10-10 Tr.
Kolumna do
wypełnienia
przez oferenta
Należy
potwierdzić lub
opisać
i)
Ręczny zawór płytowy CF (gate valve) z firmy VAT* oddzielający
komorę przygotowawczą od komory buforowej nr. 2. Wyposażony w
siłownik we wskaźnikiem położenia.
j)
Komora musi być wyposażona w port CF do podłączenia spektrometru
RGA.
k) Port z zaworem ze stali nierdzewnej UHV (all metal valve) do
odpompowywania komory zewnętrznym stanowiskiem.
l)
Port z zaworem regulacyjnym ręcznym ze stali nierdzewnej UHV z
uszczelką metalową do zaazotowywania komory przygotowawczej (all
metal valve).
m) W przypadku wyboru opcji komora musi być podłączona do elektroniki
oraz urządzenia i musi być sterowana przez oprogramowanie do obsługi
urządzenia.
Opcja 5 – Stacja grzania podłoży
Lp.
Wymagania (wymagane parametry minimalne)
Kontrahent może zaoferować aparaturę mającą parametry techniczne lepsze niż
określone przez Zamawiającego.
Kolumna do
wypełnienia
przez oferenta
Należy
potwierdzić lub
opisać
Stacja grzania podłoży, zawierająca piec do podgrzewania podłoży w temperaturze
nie mniejszej niż 600ºC ± 0.2 °C, wyposażona w dedykowany kontroler
temperatury PID wraz z zasilaczem DC oraz odpowiednią ilość termopar. W
przypadku wyboru opcji, stacja musi być zainstalowana do komory
przygotowawczej, podłączona do elektroniki i musi być sterowana przez
oprogramowanie do obsługi urządzenia.
Opcja 6 - Komora załadowcza nr. 2
Lp.
1.
Wymagania (wymagane parametry minimalne)
Kontrahent może zaoferować aparaturę mającą parametry techniczne lepsze niż
określone przez Zamawiającego.
Komora załadowcza nr. 2 (Second Load Lock Entry/Exit) z komorą
przechowywania podłoży (Storage Chamber) musi zawierać:
a) Komory UHV podłączone do komory buforowej nr. 2.
b) Drzwiczki otwierane do otoczenia z zamkiem i portem do obserwacji.
c) Wózek z mechanizmem pionowego ruchu, minimum 3 półkowy do
wkładania podłoży z zewnątrz (wyjmowany) z zainstalowaną powyżej
komora przechowawczą (Storage Chamber) zawierającą co najmniej 3
półki (minimum 6 pozycji na podłoża 3 calowe).
d) Transfer do przenoszenia podłoży do komory.
e) Port CF do podłączenia zaworu płytowego i do podłączenia zestawu do
pompowania opisanego w opcji 3 opartego na pompie turbomolekularnej
i pompie występnej typu Scroll .
f)
Układ lamp kwarcowych do odgazowania podłoży w temperaturze co
najmniej 150ºC, składający się z lampy, regulatora PID, zasilacza, oraz
Kolumna do
wypełnienia
przez oferenta
Należy
potwierdzić lub
opisać
odpowiedniej ilości termopar.
g) Ręczny zawór płytowy CF (gate valve) z firmy VAT* łączący komorę
załadowczą nr. 2 od komory buforowej nr. 2 oraz komory do
przechowywania podłoży. Wyposażony w siłownik we wskaźnikiem
położenia.
h) Port CF z próżniomierzem wraz z kontrolerem do pomiaru próżni Convection Gauge and Ion Gauge with Control Unit (o parametrach nie
gorszych niż przykładowy model Granville – Phillips 358).
i)
Port z zaworem regulacyjnym ręcznym ze stali nierdzewnej UHV z
uszczelką metalową do zaazotowywania komory załadowczej (all metal
valve).
j)
W przypadku wyboru opcji dedykowane komory muszą być podłączone
do elektroniki oraz urządzenia i musi być sterowana przez
oprogramowanie do obsługi urządzenia.
Zadanie nr 2
Pompa kriogeniczna
Lp.
1.
Wymagania (wymagane parametry minimalne)
Kontrahent może zaoferować aparaturę mającą parametry techniczne lepsze niż
określone przez Zamawiającego.
Kolumna do
wypełnienia
przez oferenta
Należy
potwierdzić lub
opisać
Pompa kriogeniczna UHV, CT8 z firmy CTI Cryogenics* (prędkość pompowania
przynajmniej 1500 l/s dla azotu) z jednym cyfrowym wskaźnikiem temperatury i
pomiarem temperatury zimnego palca. Pompa musi być wyposażona w port i
zawór ze stali nierdzewnej (all metal valve), przez który uzyskuje się wstępną
próżnię przy jej uruchamianiu i regeneracji (All metal valve on CF flange to rough
pump). Pompa musi posiadać port i zawór ze stali nierdzewnej (all metal valve)
UHV do zaazotowywania pompy przy jej regeneracji (Purge gas valve on CF
flange). Pompa musi być wyposażona w membranowy zawór bezpieczeństwa z
wymienialna membraną (rupture disc) np. zawór bezpieczeństwa CTICRYOGENICS 8081208P001 oraz membrana CTI-CRYOGENICS 8081208P002
w celu zapewnienia kompatybilności z posiadanymi zaworami. Jeden kompletny
zestaw giętkich przewodów helowych – zestaw zawiera 2 przewody helowe po 15
m (dostarczanie i odbiór helu - flexible helium conduit) przewody muszą składać
się z dwóch odcinków o długościach 9m i 6m (razem 15m) z elementami łączącymi
samouszczelniającymi. Węże helowe muszą być zakończone samouszczelniającymi
się szybkozłączami (aeroquipami). Musi być dostarczony z pompą kriogeniczną
dedykowany kompresor helowy z firmy CTI Cryogenics* (o parametrach nie
gorszych jak model 8200). Zasilanie trójfazowe dostosowane do napięcia
miedzyfazowego 400 Vac/50 Hz. Kompresor musi być chłodzony wodą.
Kompresor helowy musi współpracować z wymienioną pompą kriogeniczną. Musi
być dostarczony dedykowany kabel do zasilania pompy kriogenicznej przez
kompresor o długości minimum 15 m (cold head cables).
…………………………
podpis i pieczęć imienna Oferenta
……………………………
……………………………
pieczęć adresowa Oferenta
data
Oświadczenie
Przystępując do postępowania w sprawie udzielenia zamówienia publicznego oświadczam/y,
że spełniam/y warunki udziału w niniejszym postępowaniu zawarte w art. 22 ust. 1
Ustawy - Prawo Zamówień Publicznych.
…………………………
podpis i pieczęć imienna Oferenta
……………………………
……………………………
pieczęć adresowa Oferenta
data
Oświadczenie
Przystępując do postępowania w sprawie udzielenia zamówienia publicznego oświadczam/y,
że nie podlegam/y wykluczeniu zgodnie z Art. 24 ust. 1 Ustawy - Prawo Zamówień
Publicznych.
…………………………
podpis i pieczęć imienna Oferenta
……………………………
……………………………
pieczęć adresowa Oferenta
data
Informacja
Przystępując do postępowania w sprawie udzielenia zamówienia publicznego informuję/emy,
iż zgodnie z art. 26 ust. 2d ustawy z dnia 29 stycznia 2004 r. Prawo zamówień publicznych
Nie przynależymy do grupy kapitałowej.1
Przynależymy do grupy kapitałowej, a lista podmiotów należących do tej grupy
kapitałowej zawarta jest w załączniku do niniejszej informacji.1
…………………………
podpis i pieczęć imienna Oferenta
1
Niepotrzebne skreślić
……………………………
……………………………
pieczęć adresowa Oferenta
data
Wykaz części zamówienia, które Wykonawca powierzy
podwykonawcom2.
Lp
Zakres zamówienia, który Wykonawca zamierza powierzyć
podwykonawcom
1
2
3
4
5
Przy pomocy podwykonawców wykonamy część zamówienia o wartości ok …………… %
…………………………
pieczęć imienna Oferenta
2
w przypadku, gdy Wykonawca wykona zamówienia samodzielnie, należy wypełnić tabelkę kreskami. W
przypadku nie załączenia wykazu do oferty, Zamawiający zinterpretuje to jako brak części zamówienia, które
Wykonawca powierzy podwykonawcom.